量子电子学报

作者：陈启明,傅仁轩,徐勇军,刘益标,周金运,宋显文

单位：( 1 广东工贸职业技术学院机电工程学院, 广东 广州 510550;2 广东工业大学, 广东 广州 510006 )

关键词：光电子学,浓度梯度产生器,焦面移动正反面曝光,SU-8,聚二甲基硅氧烷,

基金：广州市科技计划项目 (202102021302) , 广东工贸高层次人才专项基金 (2021-gc-03, 2021-gc-04)

针对芯片实验室对浓度梯度产生器（CGG）的需求, 为制作侧壁垂直的CGG, 提出了一种移动焦平面正反面曝光制备SU-8光刻胶微结构的方法。该方法根据焦深将SU-8厚度分成多层, 每曝光一次焦面向下移动一层, 当曝光层数达到总层数一半时将样品翻转, 同样采用移动焦面重复曝光的方式使SU-8内部形成光化学反应通道, 得到充分曝光。最终利用SU-8微结构制作出聚二甲基硅氧烷 (PDMS) CGG。测试结果表明： SU-8微结构实际轮廓侧壁垂直, 没有出现“ T” 形结构, 沟道高度为49.4 μm； PDMS CGG侧壁垂直, 沟道深度为49.3 μm, 满足CGG侧壁垂直要求。

来源：2023年第3期

《量子电子学报》期刊编辑部

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