量子电子学报

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国内刊号:34-1163/TN

国际刊号:1007-5461

量子电子学报杂志2021年第3期:样本内部缺陷的太赫兹光谱成像与算法优化

发布日期:

作者:陈儒,杨义勤,秦凡凯,孟昭晖,苗昕扬,赵昆,詹洪磊∗

单位:中国石油大学(北京) 新能源与材料学院, 北京102249

关键词:光谱学,图像处理,缺陷检测,太赫兹时域光谱,优化算法,

基金:Supported by National Natural Science Foundation of China (国家自然科学基金重点项目, 11804392, 11574401), Industry-UniversityCooperation Collaborative Education Program of the Ministry of Education (教育部产学研合作协同育人项目, 201901066031)

利用太赫兹时域光谱成像技术检测了存在内部缺陷的高分子3D 打印样本, 获得了太赫兹时域光谱成像图。初步结果表明, 样本中的缺陷与材料自身对太赫兹波的吸收及反射存在差异, 太赫兹光谱成像可直接表征3D打印材料的外部缺陷, 但对存在于样本内部的缺陷, 太赫兹光谱成像结果尚需进一步优化。进一步研究发现, 利用高斯加噪、叠加融合、最小二乘去噪等算法对内部缺陷的光谱图像进行优化, 能够得到清晰的太赫兹时域光谱图像。因此, 利用太赫兹时域光谱成像技术及优化算法, 能够实现对有机高分子3D 打印材料内部缺陷的表征。

来源:2021年第3期

《量子电子学报》期刊编辑部

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