国内刊号:34-1163/TN
国际刊号:1007-5461
发布日期:
作者:王超,赛青林∗,齐红基∗
单位:1 中国科学院上海光学精密机械研究所高功率激光材料重点实验室, 上海201800;2 中国科学院大学, 北京100049
关键词:材料,-Ga2O3 单晶,制备方法,光学性质,电学性质,
基金:Supported by National Natural Science Foundation of China (国家自然科学基金, 51802327, 51972319)
-Ga2O3 作为宽禁带半导体材料, 以其优越的光学性质、电学性质和广阔的应用前景近年来受到国内外学者的广泛关注。基于本研究团队在如何制备-Ga2O3 单晶及如何通过掺杂五族离子实现对-Ga2O3 单晶电学性质及光学性质的调控两个重要课题上的深入研究, 对-Ga2O3 单晶的制备方法、Ta5+ 与Nb5+ 掺杂-Ga2O3单晶的电学性质及光学性质进行了综述。
来源:2021年第2期
《量子电子学报》期刊编辑部